Firotina germ a Fabrîkaya Paqijiya Bilind 99,999% Gaza Karbon Tetrafluoride CF4 ji bo Etching Pîşesaziya Simconductor

Naha di kirrûbirra internetnternetê, QC de, me gelek bikarhênerên karmendên hêja yên hêja hene, û di nav rêbaza çêkirinê de bi cûrbecûr dubendiyên tengasiyê re dixebitin ji bo Firotana germ Fabrîka Paqijiya Bilind 99.999% Karbon Tetrafluoride CF4 Gaz ji bo Etching Pîşesaziya Simconductor, Bi germî xêr hatî hevkarî û pêşvebirinê. bi me re!em ê berdewam bikin ku hilberê bi qalîteya bilind û bihayê reqabetê peyda bikin.
Naha me gelek karmendên hêja bikarhênerên ku di kirrûbirra înternetê, QC de, û bi cûrbecûr dubendiyên dijwar re di nav rêbaza çêkirinê de dixebitin ji bo çêtirîn hene.Çîn CF4 Gaz û Karbon Tetrafluoride Gaz, Piştî afirandin û pêşkeftina salan, bi avantajên jêhatîyên jêhatî yên perwerdekirî û ezmûna kirrûbirra dewlemend, destkeftiyên berbiçav hêdî hêdî hatin bidestxistin.Ji ber kalîteya hilberên me yên baş û karûbarê piştî firotanê ya baş em ji xerîdaran navûdengek baş digirin.Em ji dil dixwazin ku bi hemû hevalan re li welat û derveyî welat pêşerojek geştir û geştir biafirînin!

Parametreyên Teknîkî

Karbon tetrafluoride hîdrokarbonek halojenkirî ye ku bi formula kîmyewî CF4 e.Ew dikare wekî hîdrokarbonek halojenkirî, metana halojenkirî, perfluorocarbon, an wekî pêkhateyek neorganîkî were hesibandin.Karbon tetrafluoride gazek bê reng û bê bîhn e, di avê de nayê çareserkirin, di benzol û kloroformê de tê çareserkirin.Di bin germahî û zexta normal de îstîqrar e, ji oksîdantên xurt, ji materyalên şewitandî an şewitandinê dûr bisekinin.Gaza neşewitî, dema ku li ber germa zêde tê girtin, zexta hundurîn a konteynerê dê zêde bibe û xetera şikestin û teqînê heye.Ew ji hêla kîmyewî ve stabîl e û ne agir e.Tenê reagenta metalê ya ammonia-sodyûmê şil dikare li germahiya odeyê bixebite.Karbon tetrafluoride gazek e ku dibe sedema bandora serayê.Ew pir aram e, dikare demek dirêj di atmosferê de bimîne, û gazek serayê ya pir bi hêz e.Tetrafluoride karbonê di pêvajoya etching plasma yên curbecur çerxên yekbûyî de tê bikaranîn.Di heman demê de wekî gazek lazerê jî tê bikar anîn, û di sarincên germahiya nizm, solvan, rûkan, materyalên îzolekirinê û sarkerên ji bo detektorên infrared de tê bikar anîn.Ew di pîşesaziya mîkroelektronîkê de gaza etching a plazmayê ya herî zêde tê bikar anîn.Ew tevliheviyek ji gaza paqijiya bilind a tetrafluoromethane û gaza paqijiya bilind a tetrafluoromethane û oksîjena paqijiya bilind e.Ew dikare bi berfirehî di silicon, silicon dioxide, silicon nitride, û cama fosphosilicate de were bikar anîn.Hilgirtina materyalên fîlima zirav ên wekî tungsten û tungsten di heman demê de bi berfirehî di paqijkirina rûyê amûrên elektronîkî, hilberîna hucreya rojê, teknolojiya lazer, sarinckirina germahiya nizm, vekolîna leaksiyonê, û detergentê di hilberîna çerxa çapkirî de jî tê bikar anîn.Ji bo şebekeyên yekbûyî wekî sarincek germahiya nizm û teknolojiyek hişkkirina plazmayê tê bikar anîn.Tedbîrên ji bo hilanînê: Li depoyek gazê ya neşewitî ya sar, bi hewara xwe hilînin.Ji çavkaniyên agir û germê dûr bimînin.Germahiya hilanînê divê ji 30 ° C derbas nebe.Pêdivî ye ku ew ji hêman û oksîdantên bi hêsanî (şewitandin) veqetandî were hilanîn, û xwe ji hilanîna tevlihev dûr bixe.Pêdivî ye ku qada hilanînê bi alavên dermankirina acîl ya lehiyê were saz kirin.

Bikaranînî:

① Refrigerant:

Tetrafluoromethane carinan wekî sarincek germahiya nizm tê bikar anîn.

② Etching:

Ew di mîkrofabrîkasyona elektronîkî de tenê an jî bi oksîjenê re wekî etchantek plazmayê ji bo silicon, silicon dioxide, û silicon nitride tê bikar anîn.

Pakêta normal:

Berjewendî:

① Paqijiya bilind, sazûmana herî dawî;

② Çêkerê sertîfîkaya ISO;

③ Radestkirina bilez;

④ Pergala analîzkirina serhêl ji bo kontrolkirina kalîteyê di her gavê de;

⑤Pêwîstiya bilind û pêvajoyek hûrgulî ji bo radestkirina silindirê berî dagirtinê;Naha di kirrûbirra internetnternetê, QC de, me gelek bikarhênerên karmendên hêja yên hêja hene, û di nav rêbaza çêkirinê de bi cûrbecûr dubendiyên tengasiyê re dixebitin ji bo Firotana germ Fabrîka Paqijiya Bilind 99.999% Karbon Tetrafluoride CF4 Gaz ji bo Etching Pîşesaziya Simconductor, Bi germî xêr hatî hevkarî û pêşvebirinê. bi me re!em ê berdewam bikin ku hilberê bi qalîteya bilind û bihayê reqabetê peyda bikin.
Fabrîkaya firotanê ya germÇîn CF4 Gaz û Karbon Tetrafluoride Gaz, Piştî afirandin û pêşkeftina salan, bi avantajên jêhatîyên jêhatî yên perwerdekirî û ezmûna kirrûbirra dewlemend, destkeftiyên berbiçav hêdî hêdî hatin bidestxistin.Ji ber kalîteya hilberên me yên baş û karûbarê piştî firotanê ya baş em ji xerîdaran navûdengek baş digirin.Em ji dil dixwazin ku bi hemû hevalan re li welat û derveyî welat pêşerojek geştir û geştir biafirînin!