Karbon Tetrafluoride (CF4)

Kurte Danasîn:

Karbon tetrafluoride, ku wekî tetrafluoromethane jî tê zanîn, gazek bêreng e ku di germahî û zexta normal de, di avê de nayê çareser kirin.Gaza CF4 niha di pîşesaziya mîkroelektronîkê de gaza plazmayê ya ku herî zêde tê bikar anîn e.Di heman demê de ji bo lûleyên detektorê infrared wekî gazek lazer, sarincek krîogenîk, solvan, rûnkar, materyalê îzolekirinê, û sarkerek jî tê bikar anîn.


Detail Product

Tags Product

Parametreyên Teknîkî

Specification 99.999%
Oksîjen + Argon ≤1ppm
Nîtrojen ≤4 ppm
Rewa (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0.1 ppm
CO ≤0.1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbynes ≤1 ppm
Tevahiya Nerazîbûnên ≤10 ppm

Karbon tetrafluoride hîdrokarbonek halojenkirî ye ku bi formula kîmyewî CF4 e.Ew dikare wekî hîdrokarbonek halojenkirî, metana halojenkirî, perfluorocarbon, an wekî pêkhateyek neorganîkî were hesibandin.Karbon tetrafluoride gazek bê reng û bê bîhn e, di avê de nayê çareserkirin, di benzol û kloroformê de tê çareserkirin.Di bin germahî û zexta normal de îstîqrar e, ji oksîdantên xurt, ji materyalên şewitandî an şewitandinê dûr bisekinin.Gaza neşewitî, dema ku li ber germa zêde tê girtin, zexta hundurîn a konteynerê dê zêde bibe û xetera şikestin û teqînê heye.Ew ji hêla kîmyewî ve stabîl e û ne agir e.Tenê reagenta metalê ya ammonia-sodyûmê şil dikare li germahiya odeyê bixebite.Karbon tetrafluoride gazek e ku dibe sedema bandora serayê.Ew pir aram e, dikare demek dirêj di atmosferê de bimîne, û gazek serayê ya pir bi hêz e.Tetrafluoride karbonê di pêvajoya etching plasma yên curbecur çerxên yekbûyî de tê bikaranîn.Di heman demê de wekî gazek lazerê jî tê bikar anîn, û di sarincên germahiya nizm, solvan, rûkan, materyalên îzolekirinê û sarkerên ji bo detektorên infrared de tê bikar anîn.Ew di pîşesaziya mîkroelektronîkê de gaza etching a plazmayê ya herî zêde tê bikar anîn.Ew tevliheviyek ji gaza paqijiya bilind a tetrafluoromethane û gaza paqijiya bilind a tetrafluoromethane û oksîjena paqijiya bilind e.Ew dikare bi berfirehî di silicon, silicon dioxide, silicon nitride, û cama fosphosilicate de were bikar anîn.Hilgirtina materyalên fîlima zirav ên wekî tungsten û tungsten di heman demê de bi berfirehî di paqijkirina rûyê amûrên elektronîkî, hilberîna hucreya rojê, teknolojiya lazer, sarinckirina germahiya nizm, vekolîna leaksiyonê, û detergentê di hilberîna çerxa çapkirî de jî tê bikar anîn.Ji bo şebekeyên yekbûyî wekî sarincek germahiya nizm û teknolojiyek hişkkirina plazmayê tê bikar anîn.Tedbîrên ji bo hilanînê: Li depoyek gazê ya neşewitî ya sar, bi hewara xwe hilînin.Ji çavkaniyên agir û germê dûr bimînin.Germahiya hilanînê divê ji 30 ° C derbas nebe.Pêdivî ye ku ew ji hêman û oksîdantên bi hêsanî (şewitandin) veqetandî were hilanîn, û xwe ji hilanîna tevlihev dûr bixe.Pêdivî ye ku qada hilanînê bi alavên dermankirina acîl ya lehiyê were saz kirin.

Bikaranînî:

① Refrigerant:

Tetrafluoromethane carinan wekî sarincek germahiya nizm tê bikar anîn.

  fdrgr greg

② Etching:

Ew di mîkrofabrîkasyona elektronîkî de tenê an jî bi oksîjenê re wekî etchantek plazmayê ji bo silicon, silicon dioxide, û silicon nitride tê bikar anîn.

dsgre rgg

Pakêta normal:

Mal Karbon TetrafluorideCF4
Mezinahiya pakêtê Silindir 40Ltr Silindir 50Ltr  
Têrkirina Giraniya Net / Cyl 30 Kgs 38 Kgs  
QTY Di 20'Konteyner de hatî barkirin 250 Cyls 250 Cyls
Giraniya Tevahiya Net 7,5 ton 9,5 Ton
Giraniya silindirê 50 Kgs 55 Kgs
Devik CGA 580

Berjewendî:

① Paqijiya bilind, sazûmana herî dawî;

② Çêkerê sertîfîkaya ISO;

③ Radestkirina bilez;

④ Pergala analîzkirina serhêl ji bo kontrolkirina kalîteyê di her gavê de;

⑤Pêwîstiya bilind û pêvajoyek hûrgulî ji bo radestkirina silindirê berî dagirtinê;


  • Pêşî:
  • Piştî:

  • Peyama xwe li vir binivîse û ji me re bişîne