Lîsteya Bihayên Erzan ji bo Gazên Taybet ên Çîn Elektrona Pêşkêşkera Çîn/Pola nîvconductor 99,999% Paqijiya Karbon Tetrafluoride/Tetrafluoromethane CF4 Bihayê Gazê

"Simûlbûn, Nûbûn, Zehmetî, û Karbidestî" dibe ku têgîna domdar a rêxistina me ji bo wê dirêj-dirêj be ku bi xerîdaran re bi hev re ji bo berevajîbûn û qezenckirina hevdu ji bo Lîsteya Bihayê Erzan ji bo Gazên Taybetî Damezrandina Electron / Nîvconductor Pola 99,999% Karbonê Paqijiyê. Bihayê Gazê Tetrafluoride/Tetrafluoromethane CF4, Ji ber ku em pargîdaniyek ciwan a zêdebûyî ne, dibe ku em ne ya herî bi bandor in, lê em herî zêde hewl didin ku bi gelemperî bibin hevkarê weya fantastîk.
"Simûlbûn, Nûbûn, Zehmetî, û Karbidestî" dibe ku têgihîştina domdar a rêxistina me ji bo wê dirêj-dirêj be ku bi xerîdaran re bi hev re ji bo hevberdanî û berjewendiya hevûdu ava bikin.Çîn CF4 û CF4 Gaz, "Nirx biafirînin, Xizmetkarê Xerîdar bikin!" armanca ku em dişopînin e. Em ji dil hêvî dikin ku hemî xerîdar dê bi me re hevkariyek demdirêj û ji hev sûdmend ava bikin. Heke hûn dixwazin di derheqê pargîdaniya me de hûrgulî bistînin, Bê guman niha bi me re têkilî daynin!

Parametreyên Teknîkî

Karbon tetrafluoride hîdrokarbonek halojenkirî ye ku bi formula kîmyewî CF4 e. Ew dikare wekî hîdrokarbonek halojenkirî, metana halojenkirî, perfluorocarbon, an wekî pêkhateyek neorganîkî were hesibandin. Karbon tetrafluoride gazek bê reng û bê bîhn e, di avê de nayê çareserkirin, di benzol û kloroformê de tê çareserkirin. Di bin germahî û zexta normal de îstîqrar e, ji oksîdantên xurt, ji materyalên şewitandî an şewitandî dûr bisekinin. Gaza neşewitî, dema ku li ber germa zêde tê girtin, zexta hundurîn a konteynerê dê zêde bibe û xetera şikestin û teqînê heye. Ew ji hêla kîmyewî ve stabîl e û ne agir e. Tenê reagenta metalê ya ammonia-sodyûmê şil dikare li germahiya odeyê bixebite. Karbon tetrafluoride gazek e ku dibe sedema bandora serayê. Ew pir aram e, dikare demek dirêj di atmosferê de bimîne, û gazek serayê ya pir bi hêz e. Karbon tetrafluoride di pêvajoya etching plasma yên curbecur şebekeyên yekbûyî de tê bikaranîn. Di heman demê de ew wekî gazek lazerê jî tê bikar anîn, û di sarincên germahiya nizm, solvan, rûkan, materyalên îzolekirinê û sarkerên ji bo detektorên infrared de tê bikar anîn. Ew di pîşesaziya mîkroelektronîkê de gaza plazmayê ya ku herî zêde tê bikar anîn e. Ew tevliheviyek ji gaza paqijiya bilind a tetrafluoromethane û gaza paqijiya bilind a tetrafluoromethane û oksîjena paqijiya bilind e. Ew dikare bi berfirehî di silicon, silicon dioxide, silicon nitride, û cama fosphosilicate de were bikar anîn. Hilgirtina materyalên fîlima zirav ên wekî tungsten û tungsten di heman demê de bi berfirehî di paqijkirina rûyê amûrên elektronîkî, hilberîna hucreya rojê, teknolojiya lazer, sarinckirina germahiya nizm, vekolîna leaksiyonê, û detergentê di hilberîna çerxa çapkirî de jî tê bikar anîn. Ji bo şebekeyên yekbûyî wekî sarincek germahiya nizm û teknolojiyek hişkkirina plazmayê tê bikar anîn. Tedbîrên ji bo hilanînê: Li depoyek gazê ya neşewitî ya sar, bi hewayê hilanîn. Ji çavkaniyên agir û germê dûr bimînin. Germahiya hilanînê divê ji 30 ° C derbas nebe. Pêdivî ye ku ew ji hêman û oksîdantên bi hêsanî (şewitandin) veqetandî were hilanîn, û xwe ji hilanîna tevlihev dûr bixe. Pêdivî ye ku qada hilanînê bi alavên dermankirina acîl ya lehiyê were saz kirin.

Bikaranînî:

① Refrigerant:

Tetrafluoromethane carinan wekî sarincek germahiya nizm tê bikar anîn.

② Etching:

Ew di mîkrofabrîkasyona elektronîkî de tenê an jî bi oksîjenê re wekî etchantek plazmayê ji bo silicon, silicon dioxide, û silicon nitride tê bikar anîn.

Pakêta normal:

Berjewendî:

① Paqijiya bilind, sazûmana herî dawî;

② Çêkera belgeya ISO;

③ Radestkirina bilez;

④ Pergala analîzkirina serhêl ji bo kontrolkirina kalîteyê di her gavê de;

⑤Pêwîstiya bilind û pêvajoyek hûrgulî ji bo radestkirina silinderê berî dagirtinê;